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TN-G1100ZC高真空CVD管式爐

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關(guān)鍵詞: 高真空CVD管式爐           

摘要

產(chǎn)品名稱	高真空CVD管式爐
產(chǎn)品型號	TN-G1100ZC
產(chǎn)品簡介	
主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)工藝等

產(chǎn)品介紹

TN-G1100ZC型高真空CVD管式爐

該儀器是一個三溫區(qū)真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等試驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)工藝等。

儀器的控制系統(tǒng)采用原裝進(jìn)口產(chǎn)品,具有操作容易,安全可靠,控溫精度高(專家PID控制),保溫效果好,溫度范圍大,爐膛溫度均勻性高,溫區(qū)多,可通氣泵,抽真空等特點(diǎn)。

 

1

產(chǎn)品名稱

TN-G1100ZC型高真空CVD管式爐

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產(chǎn)品型號

TN-G1100ZC-503        爐膛尺寸:直徑50x300mm

TN-G1100ZC-603        爐膛尺寸:直徑60x300mm

TN-G1100ZC-803        爐膛尺寸:直徑80x300mm

3

爐門結(jié)構(gòu)

開啟式

4

上限溫度

1200℃

5

工作溫度

≤1100℃

6

加熱溫區(qū)

三溫區(qū)

7

   溫區(qū)長度

220mm

8

恒溫區(qū)長

100mm

9

爐管材質(zhì)

301S不銹鋼管(可選剛玉管)

10

密封方式

不銹鋼真空法蘭

11

氣密性

真空法蘭和石英爐管的氣密性可達(dá)4.03x10-3Pa

12

控溫方式

智能化30段可編程控制,自動控溫

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控溫精度

±1℃

14

加熱速率

≤20℃

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加熱元件

硅碳棒

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熱電偶

K型熱電偶

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爐膛材料

進(jìn)口氧化鋁陶瓷纖維

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功率

2.5Kw

19

電壓

220V  50Hz-60Hz 

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系統(tǒng)真空

5~10Pa(需要達(dá)到其它真空度時,需選配不同的抽真空裝置)

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售后服務(wù)

12個月質(zhì)保,終身保修

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24




9全部產(chǎn)品

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